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應(yīng)用領(lǐng)域
應(yīng)用領(lǐng)域

艾森 致力高端電子化學(xué)品


晶圓|先進(jìn)封裝應(yīng)用|封測(cè)系列

  光刻膠及配套試劑
     正性光刻膠、
     光敏性聚酰亞胺(PSPI)光刻膠、
     I-line化學(xué)放大(ICA)光刻膠、
     高深寬比KrF光刻膠等
  電鍍液及配套試劑
     28納米制程大馬士革銅互聯(lián)工藝鍍銅添加劑、
     14納米制程超純硫酸鈷、
     PCMP清洗液等



晶圓|先進(jìn)封裝應(yīng)用|封測(cè)系列

  光刻膠及配套試劑
     正性光刻膠、
     負(fù)性光刻膠、
     光刻膠配套材料等
  電鍍液及配套試劑
     電鍍銅基液、
     電鍍錫銀添加劑、
     電鍍銅添加劑、
     鎳鈀化鍍等



晶圓|先進(jìn)封裝應(yīng)用|封測(cè)系列

  電鍍液及配套試劑
     純錫電鍍、
     環(huán)保中性鍍錫、
     電鍍前后處理用化學(xué)品、
     電鍍配套材料等
* 逐步向高端PCB(HDI)應(yīng)用,提高國(guó)產(chǎn)化率



晶圓|先進(jìn)封裝應(yīng)用|封測(cè)系列

  光刻膠及配套試劑
     OIED陣列光刻膠
     OLED低溫光刻胺
  電鍍液及配套試劑
     電鍍錫、
     電鍍銅等